什么3D封裝,立體“多層”芯片才是下一代芯片出路
斯坦福大學(xué)工程師開發(fā)出的四層“多層芯片”原型。底層和頂層是邏輯晶體管,中間是兩層存儲芯片層。垂直的管子是納米級的電子“電梯”,連接邏輯層和存儲層,讓它們能一起工作解決問題。
左邊是目前的單層電路卡,邏輯與存儲芯片分隔在不同區(qū),通過電線連接。就像城市街道,由于數(shù)據(jù)在邏輯區(qū)和存儲區(qū)來來回回地傳輸,常會產(chǎn)生擁堵。右邊是多層的邏輯芯片和存儲芯片,形成一種“摩天大樓”式的芯片,數(shù)據(jù)通過納米“電梯”實現(xiàn)立體傳輸,避免了擁堵。
幾十年來,“更小、更快、更便宜”已成為推動電子設(shè)備發(fā)展的魔咒。最近,美國斯坦福大學(xué)工程師又給它增加了第四個——更高。在12月15日至17日美國舊金山召開的電氣和電子工程師協(xié)會(IEEE)國際電子設(shè)備大會上,斯坦福大學(xué)研究小組介紹了怎樣構(gòu)建一種“多層”芯片,能大大提高目前電路卡上單層的邏輯和存儲芯片的性能。
電路卡就像繁忙的城市,在存儲芯片上存儲數(shù)據(jù),通過邏輯芯片計算。當(dāng)計算機(jī)繁忙時,連接邏輯芯片與存儲芯片的線路就會發(fā)生“數(shù)字交通擁堵”,而“多層”芯片能終結(jié)這種擁堵。
這種新方案能在存儲層上疊加邏輯層,緊密且互相連接,通過數(shù)千個納米級的電子“電梯”在各層之間運(yùn)輸數(shù)據(jù),將比目前單層邏輯芯片和存儲芯片間的連線速度更快,耗電更少。
三項突破
這項研究由斯坦福大學(xué)電學(xué)工程與計算機(jī)科學(xué)教授薩博哈西斯·米特拉和H-S·菲利普·翁等人負(fù)責(zé)。據(jù)研究小組介紹,他們的創(chuàng)新研究取得了三項突破:第一是制造晶體管的新技術(shù),晶體管是微小的門,通過開關(guān)電流來代表1和0;第二是新型的計算機(jī)存儲器,具有多層結(jié)構(gòu);第三是把制造邏輯門和存儲器的新技術(shù)整合在一起,成為多層結(jié)構(gòu)的新技術(shù),這與以往的堆疊芯片完全不同。
“這項研究還在早期階段,但我們的設(shè)計和制造技術(shù)是可升級的?!泵滋乩f,“隨著今后的發(fā)展,這種結(jié)構(gòu)將會使計算機(jī)性能大大提高,超過現(xiàn)有任何計算機(jī)?!?
翁說,這種芯片的原型已在去年的國際電子器件大會(IEDM)上展出過,顯示了怎樣把邏輯和存儲芯片結(jié)合到一種能大規(guī)模生產(chǎn)的三維結(jié)構(gòu)上??梢哉f,這改變了芯片的范式。“有了這種新結(jié)構(gòu),電子制造業(yè)會把你手中的計算機(jī)變成強(qiáng)大的超級計算機(jī)?!?
碳納米管造邏輯層
工程師幾十年前就已造出了硅芯片。但無論手機(jī)還是平板電腦都會發(fā)熱,放出熱量的大小也能顯示其內(nèi)部問題。即使把它們關(guān)上,有時也會有電從硅晶體管中泄露。用戶會感覺到熱,對系統(tǒng)本身來說,這種泄露也會耗盡電池,浪費(fèi)電力。研究人員正致力于解決這一難題,比如用碳納米管(CNT)晶體管。
碳納米管非常纖細(xì),20億根才有一根頭發(fā)粗細(xì),所以漏電要比硅少得多。在米特拉和翁的第二篇會議論文中,介紹了他們是怎樣制造性能最高的碳納米管晶體管的。用以往的生產(chǎn)碳納米管的標(biāo)準(zhǔn)工藝,造出的納米管密度不夠致密。他們攻克了這一難題,開發(fā)出一種靈活的技術(shù),能把足夠多的碳納米管打包在足夠小的面積里,以制造有用的芯片。
他們先在圓形石英晶片上用標(biāo)準(zhǔn)方法生產(chǎn)碳納米管,然后增加厚度到一定量,再用黏合法把整個碳納米管層從石英介質(zhì)上剝離,放到硅晶片上。這種硅晶片就是他們多層芯片的基礎(chǔ)。
研究人員先要制造密度足夠大的碳納米管層,才能制造出高性能的邏輯設(shè)備。他們按這種工藝重復(fù)13次,在石英晶片上生長了一大堆碳納米管,然后用轉(zhuǎn)移技術(shù)剝離,把它們沉淀在硅晶片上。用這種簡捷的技術(shù)來固定,他們造出了一些迄今密度最高、性能最高的碳納米管。他們還證明了,在制造多層芯片時,能在超過一個邏輯層上實施這種技術(shù)。
“三明治式”存儲器
造出高性能的CNT晶體管層只是多層芯片的一部分,在每層CNT晶體管層上直接制作出存儲芯片也同樣重要。翁是制造這種存儲器的領(lǐng)導(dǎo)者。
翁設(shè)計的新型存儲器與目前的存儲器完全不同,不是以硅為基礎(chǔ),而是用氮化鈦、二氧化鉿和鉑,構(gòu)成一種金屬—氧化物—金屬的夾層結(jié)構(gòu),從一個方向通電會產(chǎn)生電阻,而反向通電則能導(dǎo)電。從電阻到導(dǎo)電狀態(tài)的改變,就是這種新存儲技術(shù)形成數(shù)字0和1的方式,所以它的名字就叫做電阻式隨機(jī)存取存儲器或RRAM。
RRAM比目前的存儲器耗電更少,在移動設(shè)備上使用能延長電池壽命。這種新的存儲技術(shù)也是制造多層芯片的關(guān)鍵,因為RRAM能以比硅存儲器更低的溫度制造。
多層互連
會議上展示的是斯坦福大學(xué)電學(xué)工程研究生馬克斯·修雷克和托尼·吳制造的四層芯片。制造RRAM和CNT晶體管層都是以低熱工藝為基礎(chǔ),所以能在每層 CNT邏輯芯片上直接制造存儲芯片層,在制造每層存儲芯片層時,能鉆數(shù)千個與下面邏輯層互相連通的小孔。在傳統(tǒng)的電路卡上,就是這種多層互連讓多層芯片能避免“交通擁堵”。
如果用傳統(tǒng)的硅基邏輯和存儲芯片,無法實現(xiàn)多層間的緊密互連。因為制造硅基存儲器要花太多熱量,大約要1000℃,這會讓下面的邏輯芯片融化。
以往也有人研究堆疊式硅芯片,這會節(jié)約空間,但無法避免數(shù)據(jù)“交通擁堵”。因為每層芯片都要獨(dú)立制造,并用電線連接——這仍然傾向于擁堵,與研究小組設(shè)計的“納米電梯”是完全不同的。
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